项目名称：高性能电磁屏蔽、隐身光学元件的设计、制备与应用
转移转化方式：□转让 □许可 □作价入股 ✔其他
技术成熟度：□实验室□小试 □中试 ✔小批量生产□工业化生产
技术领域：□人工智能□生物医药 ✔新材料□节能环保 ✔其他
申报高校: 上海理工大学
| 1. 项目总体介绍:常见的光学窗口材料一般是绝缘体，其电磁屏蔽能力往往比较差。为了提高光学窗口的电磁屏蔽性能，本成果通过设计、制备特殊薄膜结构，在保证其高光学透过率的前提下，实现电磁屏蔽性能的巨大提升。 | |
| 2. 技术创新点:（1）薄膜沉积工艺简单、光学元件透过率高、光谱范围宽；（2）薄膜层缺陷少、抗激光损伤阈值高。 | |
| 3. 知识产权归属及相关专利说明:目前已获得授权国家发明专利6件 | |
| 4.商业化概述 (市场前景):前景广阔 | |
| 5. 优先使用产业领域及地方区域:军工行业 | |
| 6. 初步意向交易方式及金额:面谈。 | |
| 7.行业状况该类型窗口元件透过率大于90%@可见及近红外区，明视觉反射率分别为：8度0.24%，15度0.21%，30度0.27%；方块电阻低于10ohm/sq，电磁屏蔽能力优于24dB@100MHz-18GHz，经用户确认，性能指标处于国内领先，达到国际先进水平。 | |
| 展示方式：□实物（或模型） ✔展板图文 □多媒体演示 | |